申报已结束
为进一步推进南沙半导体及集成电路产业发展，集聚全球创新资源和高端要素，打造规模领先、特色鲜明的产业集群。支持企业流片，对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业，按模拟类产品当年实际发生费用的80%、数字类产品当年实际发生费用的60%，每年给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业，给予流片费用(包括IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等)50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的(含)，年度补贴总额最高600万元;对工艺制程在45nm以下的，年度补贴总额最高2000万元。
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