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为深入贯彻落实中央和省、市关于推进高质量发展的总体要求，促进我区经济加快实现质的有效提升和量的合理增长。对实施固定资产投资额500万元以上且设备和工器具购买金额200万元以上的经备案技术改造项目或实施设备和工器具购买金额2000万元以上的经备案增资扩产项目的企业，投产当年产值同比增长5%以下、5%以上、8%以上、10%以上的，分别按购买设备和工器具金额的5%、8%、10%、12%给予扶持，单个企业每年最高2000万元。
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为深入贯彻落实中央和省、市关于推进高质量发展的总体要求，促进我区经济加快实现质的有效提升和量的合理增长。对实施固定资产投资额500万元以上且设备和工器具购买金额200万元以上的经备案技术改造项目或实施设备和工器具购买金额2000万元以上的经备案增资扩产项目的企业，投产当年产值同比增长5%以下、5%以上、8%以上、10%以上的，分别按购买设备和工器具金额的5%、8%、10%、12%给予扶持，单个企业每年最高2000万元。
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为推动企业发展为规模以上工业企业，促进工业经济平稳健康发展，现决定在南沙区范围内培育和征集一批小微培育企业。 建立小微工业企业培育库，及时跟踪掌握库内企业生产运行情况，加大对库内企业的政策倾斜支持力度，推动企业发展为规模以上工业企业，促进南沙区工业经济平稳健康发展。
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为深入贯彻党的十九大关于“加快建设制造强国，加快发展先进制造业，推动互联网、大数据、人工智能和实体经济深度融合”战略部署，大力推动我区工业互联网产业发展，推动全产业链条要素整合优化和产业生态体系重构，全面促进制造业向数字化网络化智能化服务化转型升级，为全省工业互联网发展提供试点经验和示范引领。 支持本区工业企业探索基于标识解析的供应链管理、工厂内物流、关键产品追溯、个性化定制、全生命周期管理等转型升级，对开展工业互联网标识解析创新应用的企业给予一次性最高150万元补贴，补助比例不超过项目总投资的30%。对参与建设工业互联网标识解析二级节点并取得良好应用效果的工业企业、工业互联网服务商、工业互联网协会或联盟按参与投资额30%给予补贴，最高不超过300万元。
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中央财政对入选城市给予定额奖励。按照每个入选城市不超过3亿元下达奖补资金，试点实施期第一年拨付50%奖补资金，实施期满考核评价通过后拨付其余50%奖补资金。支持城市采用“点线面”结合的方式组织示范项目，“点”上开展数字化智能化改造示范、“线”上开展产业链供应链数字化协同改造示范、“面”上开展产业集群及科技产业园区数字化绿色化改造示范，加快数智技术、绿色技术以及创新产品推广应用。
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为进一步推进南沙半导体及集成电路产业发展，集聚全球创新资源和高端要素，打造规模领先、特色鲜明的产业集群。支持企业流片，对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业，按模拟类产品当年实际发生费用的80%、数字类产品当年实际发生费用的60%，每年给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业，给予流片费用(包括IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等)50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的(含)，年度补贴总额最高600万元;对工艺制程在45nm以下的，年度补贴总额最高2000万元。
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为进一步推进南沙半导体及集成电路产业发展，集聚全球创新资源和高端要素，打造规模领先、特色鲜明的产业集群。支持企业流片，对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业，按模拟类产品当年实际发生费用的80%、数字类产品当年实际发生费用的60%，每年给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业，给予流片费用(包括IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等)50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的(含)，年度补贴总额最高600万元;对工艺制程在45nm以下的，年度补贴总额最高2000万元。
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为进一步推进南沙半导体及集成电路产业发展，集聚全球创新资源和高端要素，打造规模领先、特色鲜明的产业集群。支持企业流片，对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业，按模拟类产品当年实际发生费用的80%、数字类产品当年实际发生费用的60%，每年给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业，给予流片费用(包括IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等)50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的(含)，年度补贴总额最高600万元;对工艺制程在45nm以下的，年度补贴总额最高2000万元。
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为进一步推进南沙半导体及集成电路产业发展，集聚全球创新资源和高端要素，打造规模领先、特色鲜明的产业集群。支持企业流片，对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业，按模拟类产品当年实际发生费用的80%、数字类产品当年实际发生费用的60%，每年给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业，给予流片费用(包括IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等)50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的(含)，年度补贴总额最高600万元;对工艺制程在45nm以下的，年度补贴总额最高2000万元。
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为进一步推进南沙半导体及集成电路产业发展，集聚全球创新资源和高端要素，打造规模领先、特色鲜明的产业集群。支持企业流片，对于使用多项目晶圆(MPW)流片进行研发的企业，按模拟类产品当年实际发生费用的80%、数字类产品当年实际发生费用的60%，每年给予每家企业年度总额最高300万元的补贴。对于首次完成全掩膜(Full Mask)工程产品流片的企业，给予流片费用(包括IP授权费、掩膜版费、测试化验费、加工费等)50%的补贴，其中：对工艺制程在45nm以上的(含)，年度补贴总额最高600万元;对工艺制程在45nm以下的，年度补贴总额最高2000万元。
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